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研究生导师王殿龙：哈尔滨工业大学

2016-05-07 12:12:30来源：网络
姓　　名 王殿龙 性　　别 男 出生年月
所在院校 哈尔滨工业大学 所在院系 应用化学
职称 教授 招生专业 应用化学
研究领域 锂离子电池材料、镍氢电池材料、表面工程、复合材料镀层、增韧结构陶瓷、太阳能制氢
联系方式 E-mail dlwang@hit.edu.cn 电 话 0451*******邮 编 0
地 址
个人简介
　　教育经历
　　1982年9月～1986年7月哈尔滨工业大学应用化学系电化学专业，工学学士
　　1986年9月～1989年7月哈尔滨工业大学应用化学系电化学专业，工学硕士
　　2001年9月～2004年7月哈尔滨工业大学应用化学化学学科，工学博士
　　工作经历
　　1989.1－1991.7 哈尔滨工业大学应用化学系，研究实习员
　　1991.8－1996.7 哈尔滨工业大学应用化学系, 助理研究员
　　1996.8－2005.6 哈尔滨工业大学应用化学系, 副研究员
　　2001.8－2005.6 哈尔滨工业大学应用化学系硕士生导师
　　2006.5－目前 哈尔滨工业大学应用化学系博士生导师　　教育经历
　　1982年9月～1986年7月哈尔滨工业大学应用化学系电化学专业，工学学士
　　1986年9月～1989年7月哈尔滨工业大学应用化学系电化学专业，工学硕士
　　2001年9月～2004年7月哈尔滨工业大学应用化学化学学科，工学博士
　　工作经历
　　1989.1－1991.7 哈尔滨工业大学应用化学系，研究实习员
　　1991.8－1996.7 哈尔滨工业大学应用化学系, 助理研究员
　　1996.8－2005.6 哈尔滨工业大学应用化学系, 副研究员
　　2001.8－2005.6 哈尔滨工业大学应用化学系硕士生导师
　　2006.5－目前 哈尔滨工业大学应用化学系博士生导师
获得奖项
　　获奖
　　Fe-P/Al2O3耐磨复合镀层，1993年航天工业部科技进步二等奖
　　高稳定快速化学镀镍技术（在耐磨防腐表面加工中的应用），1996年获国家教委科技进步二等奖
　　Fe-P/Al2O3耐磨复合镀工艺自动生产线，1997年获国家教委科技进步三等奖
　　稀土永磁材料防护镀层工艺技术，1997年获航天工业总公司科技进步二等奖
　　稀土永磁材料防护镀层工艺技术的工业应用，1998年获国家教委科技进步三等奖
　...　　获奖
　　Fe-P/Al2O3耐磨复合镀层，1993年航天工业部科技进步二等奖
　　高稳定快速化学镀镍技术（在耐磨防腐表面加工中的应用），1996年获国家教委科技进步二等奖
　　Fe-P/Al2O3耐磨复合镀工艺自动生产线，1997年获国家教委科技进步三等奖
　　稀土永磁材料防护镀层工艺技术，1997年获航天工业总公司科技进步二等奖
　　稀土永磁材料防护镀层工艺技术的工业应用，1998年获国家教委科技进步三等奖
　　高稳定快速化学镀镍技术（推广），2004年获国家教委科技进步二等奖
　　专利
　　钴、锌、稀土合金表面改性覆层泡沫镍(本人为第一发明人), 公开号：CN1527423A
　　线状不良导电体连续电镀装置(本人为第一发明人), 申请号：200410044095.3
　　带状不良导电体连续电镀装置(本人为第一发明人), 申请号：200410044096.8
　　铅酸电池热浸镀泡沫铅板栅及其制作方法(本人为第二发明人) , 公开号：CN1527421A
著作及论文
　　Wang DL, Li J, Dai CS, HU XG. “An Adsorption Strength Model for the Electrochemical Codeposition of Alpha-Al2O3 Particles and a Fe-P Alloy”, Journal of Applied Electrochemistry, 1999, 29 (4): 437-444.
　　Wang DL, Dai CS, Wu N, JIANG. ZH “Multiple-step constant current density electrodeposition of continuous metal materialwith high porosity”, Journal of Applied Electrochemistry, 2003, 33 (8): 725-732.　　Wang DL, Li J, Dai CS, HU XG. “An Adsorption Strength Model for the Electrochemical Codeposition of Alpha-Al2O3 Particles and a Fe-P Alloy”, Journal of Applied Electrochemistry, 1999, 29 (4): 437-444.
　　Wang DL, Dai CS, Wu N, JIANG. ZH “Multiple-step constant current density electrodeposition of continuous metal materialwith high porosity”, Journal of Applied Electrochemistry, 2003, 33 (8): 725-732.

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