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三、考试要求
(一)半导体的晶格结构和电子状态
1.了解半导体的晶格结构和结合性质的基本概念。
2.理解半导体中的电子状态和能带的基本概念。
3.掌握半导体中的电子运动规律,理解有效质量的意义。
4.理解本征半导体的导电机构,理解空穴的概念。
5.熟练掌握空间等能面和回旋共振的相关公式推导、并能灵活运用。
6.理解硅和锗的能带结构,掌握有效质量的计算方法。
7.了解III-V族化合物半导体的能带结构。
8.了解II-VI族化合物半导体的能带结构。
(二)半导体中杂质和缺陷能级
1.理解替位式杂质、间隙式杂质、施主杂质、施主能级、受主杂质、受主能级的概念。
2.简单计算浅能级杂质电离能。
3.了解杂质的补偿作用、深能级杂质的概念。
4.了解III-V族化合物中杂质能级的概念。
5.理解点缺陷、位错的概念。
(三)半导体中载流子的统计分布
1.深入理解并熟练掌握状态密度的概念和表示方法。
2.深入理解并熟练掌握费米能级和载流子的统计分布。
3.深入理解并熟练掌握本征半导体的载流子浓度的概念和表示方法。
4.深入理解并熟练掌握杂质半导体的载流子浓度的概念和表示方法。
5.理解并掌握一般情况下的载流子统计分布。
6.深入理解并熟练掌握简并半导体的概念,简并半导体的载流子浓度的表示方法,简并化条件。了解低温载流子冻析效应、禁带变窄效应。
(四)半导体的导电性
1.深入理解迁移率的概念。并熟练掌握载流子的漂移运动,包括公式。
2.深入理解载流子的散射的概念。
3.深入理解并熟练掌握迁移率与杂质浓度和温度的关系,包括公式。
4.深入理解并熟练掌握电阻率及其与杂质浓度和温度的关系,包括公式。
5.深入理解电导率的统计理论。并熟练掌握玻尔兹曼方程。
6.了解强电场下的效应和热载流子的概念。
7.了解多能谷散射概念和耿氏效应。
(五)非平衡载流子
1.深入理解非平衡载流子的注入与复合的概念,包括表达式。
2.深入理解非平衡载流子的寿命的概念,包括表达式、能带示意图。
3.深入理解准费米能级的概念,包括表达式、能带示意图。
4.了解复合理论,理解直接复合、间接复合、表面复合、俄歇复合的概念,包括表达式、能带示意图。
5.了解陷阱效应,包括表达式、能带示意图。
6.深入理解并熟练掌握载流子的扩散运动,包括公式。
7.深入理解并熟练掌握载流子的漂移运动,爱因斯坦关系式。并能灵活运用。
8.深入理解并熟练掌握连续性方程式。并能灵活运用。
(六)p-n结
1.深入理解并熟练掌握p-n结及其能带图,包括公式、能带示意图。
2.深入理解并熟练掌握p-n结电流电压特性,包括公式、能带示意图。
3.深入理解p-n结电容的概念,熟练掌握p-n结电容表达式、能带示意图。
4.深入理解雪崩击穿、隧道击穿热击穿的概念。
5.了解p-n结隧道效应。
(七)金属和半导体的接触
1.了解金属半导体接触及其能带图。理解功函数、接触电势差的概念,包括公式、能带示意图。了解表面态对接触势垒的影响。
2.了解金属半导体接触整流理论。深入理解并熟练掌握扩散理论、热电子发射理论、镜像力和隧道效应的影响、肖特基势垒二极管的概念。
3.了解少数载流子的注入和欧姆接触的概念。
(八)半导体表面与MIS结构
1.深入理解表面态的概念。
2.深入理解表面电场效应,空间电荷层及表面势的概念,包括能带示意图。深入理解并熟练掌握表面空间电荷层的电场、电势和电容的关系,包括公式、示意图。并能灵活运用。
3.深入理解并熟练掌握MIS结构的电容-电压特性,包括公式、示意图。并能灵活运用。
4.深入理解并熟练掌握硅─二氧化硅系数的性质,包括公式、示意图。并能灵活运用。
5.理解表面电导及迁移率的概念。
6.了解表面电场对p-n结特性的影响。
(九)异质结
1.理解异质结及其能带图,并能画出示意图。
2.了解异质结的电流输运机构。
3.了解异质结在器件中的应用。
4.了解半导体超晶格的概念。
(十)半导体的光、热、磁、压阻等物理现象
1.了解半导体的光学常数,理解折射率、吸收系数、反射系数、透射系数的概念。了解半导体的光吸收现象,理解本征吸收、直接跃迁、间接跃迁的概念。了解半导体的光电导的概念。理解并掌握半导体的光生伏特效应,光电池的电流电压特性的表达式。了解半导体发光现象,理解辐射跃迁、发光效率、电致发光的概念。了解半导体激光的基本原理和物理过程,理解自发辐射、受激辐射、分布反转的概念。
2. 了解热电效应的一般描述,半导体的温差电动势率,半导体的珀耳帖效应,半导体的汤姆孙效应,半导体的热导率,半导体热电效应的应用。
3. 理解并掌握霍耳效应的概念和表示方法。理解磁阻效应。了解磁光效应,量子化霍耳效应,热磁效应,光磁电效应,压阻效应。了解声波和载流子的相互作用。
四、主要参考书目
刘恩科,朱秉升,罗晋生.《半导体物理学》,电子工业出版社,2008。
编制单位:中国科学院大学
编制日期:2013年6月27日
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